0.5μm 2P2M 20-60V BiCMOS技术是FMIC自主开发的低导通电阻的BCD工艺平台，其工艺具有典型性，与传统CMOS工艺相兼容，驱动能力强，成本较低，附加值高. 平台产品可以广泛的应用于电源管理、LED驱动、汽车电子等高端消费电子领域。
工艺特性
? N 型外延，N型埋层工艺
? 双多晶硅栅，多晶硅一用作高压MOS的栅极，Poly2用作低压MOS的栅极
? PN结和局部氧化隔离
? 氮化硅侧墙工艺
? 接触孔和通孔采用钨塞工艺
? 可选顶层厚铝
? 标准 40V/5V BCD 采用20层光罩，20层光刻层
典型应用? 驱动电路
? 电源管理电路
? D级放大器
? 高压模拟产品